Ionfab 300 IBD

客户选择我们的离子束沉积产品是因为它们能够生产具有高质量，致密和表面光滑的沉积薄膜。离子束技术提供了一种多样的刻蚀和沉积的方法，并可在同一设备上实现， 因而提高系统的利用率。我们的设备具有灵活的硬件选项，包括直开式、单衬底传送模式和盒式对盒式模式。系统规格与实际应用紧密协调，以确保获得速率更快且重复性更好的工艺结果。

• 多模式功能

• 能够与其它等离子体刻蚀和沉积设备相集成

• 单晶圆传送模式或集群式晶圆操作

• 双束流配置

• 更低的表面薄膜粗糙度

• 更佳的批次均匀性和工艺重复性

• 精确终点监测 —— SIMS，发射光谱

Ionfab 300 IBE

离子束刻蚀的灵活性、均匀性俱佳且应用范围广。我们的设备具有灵活的硬件选项，包括直开式、单衬底传送模式和盒式对盒式模式。系统配置与实际应用紧密协调，以确保获得速率更快且重复性更好的工艺结果。

• 多模式功能

• 能够与其它等离子体刻蚀和沉积设备相集成

• 单晶圆传送模式或集群式晶圆操作

• 双束流配置

• 更低的表面薄膜粗糙度

• 更佳的批次均匀性和工艺重复性

• 精确终点监测 —— SIMS，发射光谱