脉冲激光沉积系统(PLD)
产品介绍 脉冲激光沉积 (Pulsed laser deposition, PLD),就是将激光聚焦于靶材上一个较小的面积,利用激光的高能量密度将部分靶材料蒸发甚至电离,使其能够脱离靶材而向基底运动,进而在基底上沉积,从而形成薄膜的一种方式。 在众多的薄膜制备方法中,脉冲激光沉积技术的应用较为广泛,可用来制备金属、半导体、氧化物、氮化物、碳化物、硼化物、硅化物、硫化物及氟化物等各种物质薄膜,甚至还用来制备一些难以合成的材料膜,如金刚石、立方氮化物膜等。 PLD系统的核心技术一直被国外垄断,以往的国产系统在性能上与进口设备存在较大差距。我们的研发团队通过与国内顶尖科研机构协作,共同开发出了性能优异的PLD系统。我公司开发的**台脉冲激光沉积系统(PLD)已顺利交付用户(清华大学)使用,并获得用户的好评。 脉冲激光沉积系统(PLD) 脉冲激光沉积系统配置:
脉冲激光沉积系统特点及优势:
另外,我们还提供不含RHEED的简易PLD系统,并可根据用户的要求定制。 |
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