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聚光科技E5000电弧直读发射光谱仪
聚光科技E5000电弧直读发射光谱仪图片
产地:浙江
波长范围:190nm~680nm
通道数:全谱检测
刻线数:2400
焦距:400mm
激发方式:电弧
检测器类:电荷耦合元件(CCD)
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产品介绍

E5000发射光谱仪具有全谱多元素同时分析、分析速度快、分析精准、稳定性好等优点,分析性能达到了国际**水平。作为全球首创粉末样品元素分析的台式全谱直读发射光谱仪,E5000发射光谱仪拥有创新的高功率数控电弧光源、全自动激光对准的光源装置、稳定可靠的帕型-龙格全谱分光系统以及阵列CCD全谱测量技术,同时,E5000发射光谱仪结合时序分析、光谱自动校正等先进技术,采用固体样品直接进样的方法,全面解决了传统技术分析繁琐、效率低下、准确性差等问题,是光谱元素分析领域的重大突破。

E5000发射光谱仪产品结构设计

电弧发射光谱技术与全谱直读光谱技术结合,新一代固体粉末分析技术;

Paschen-Runge(帕型-龙格)全谱光学系统,能测定需要分析的所有常规元素;

紧凑的小型台式设计,确保稳定可靠、易用便捷;

防溢出CCD高速数采系统,信噪比高、动态范围大;

高功率数控可编程光源,电流、电压、频率可控,提供更优的分析方法;

多重连锁和监控,确保操作安全可靠;

全自动电极激光对准系统;

粉末样品直接进样,方便迅速;

一键激发,立刻获得分析结果;

内置工作曲线,客户无需手动建线,切实提高工作效率;

软件开放所有高级功能,为客户提供**的方法开发平台。

E5000发射光谱仪全谱测量技术

全谱平台拥有丰富的谱线信息,更易于元素扩展与方法开发;

基于全谱测量的数据,能够正确区分背景和谱线,有效提高测量精度;

- 方便查看谱线及干扰情况

- 支持斜背景、左右背景等不同的扣除方式

强大的自动谱线去干扰算法;

- 通过算法扣除干扰谱线获得干净的待分析谱线

- 基于全谱测量数据的多峰拟合技术可将谱线完全分开,有效消除谱线的干扰

根据元素的含量范围选择不同的分析谱线,大含量范围的测量更准确;

- 多谱线结合,扩展分析范围的同时,有效保证分析精度;

- 避免灵敏线饱和,不需要消释样品,取得更大的分析范围;

CCD高速数采系统

防溢出线阵CCD;

采用动态积分,有效扩展CCD的动态范围;

Paschen-Runge(帕型-龙格)全谱光学系统

恒温型全固定光学系统;

全反射式光路;

光室结构紧凑;

一体式固定;

光学器件少,性能稳定;

基于CCD的全谱采集和分析;

全新一代电弧数控光源

数控光源体积小、效率高;

基于数控可编程技术,光源的电流、电压、频率可调节;

分析不同含量的元素,选择***激发参数,降低元素分析的检出线,改善元素分析的准确度;

可设置及读取不同检测阶段的数据;

一键激发及全自动对准电极

样品装载激发一气呵成,方便快捷;

多元素同时分析,直接得到最终结果;

设计精良的电极挟持旋钮;

红外激光对准、先进的电极激光自动对准技术;

水冷电极夹提高检测稳定性;

多重连锁和安全保护

可靠的水冷系统,分别对电弧光源和激发电极散热;

实时监控仪器的运行状态,所有的连锁状态如冷却水、排风、炬室门等都通过界面和指示灯等多种形式直接提醒;

界面上有关键温度的显示,**时间查看仪器的运行情况;

排风监控,消除废气影响;

特殊的风道设计提高稳定性;

水冷系统

强大的分析软件

便捷易用的分析软件;

- 操作直观、便捷、层次化的软件界面,非专业人员也能方便操作

- 简单的方法开发过程,各种检测条件都可调节

强大的多元素分析平台;

- 便捷的全谱查看

- 多元素分析及多谱线选择

- 一键激发,直接在软件上得到分析结果

- 丰富的方法库有利于方法的传承、学习和维护

可分析元素及多谱线选择

全面智能的软件算法;

- 内置工作曲线,完善的时序分析,能够实现定性、定量分析

- 丰富的处理技术,支持内标法、基底扣除、干扰元素校正等分析方法

- 功能强大的高级处理功能,为客户带来更全面、更精确的分析体验

**的智能漂移校正技术。

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