Q150V Plus超高真空离子溅射/热蒸发镀膜仪
 产品介绍 产品介绍 Q150V Plus为高真空镀膜应用做了优化设计，极限真空度可达1x10-6mbar。结合潘宁规和皮拉尼规的使用，可以使易被氧化的金属形成超小尺寸的颗粒，以实现高分辨率成像。高真空腔室也可以将氮气，氧气和水完全除去，避免在溅射过程中因化学反应导致杂质和缺陷形成。较低的溅射速率还可获得高纯度和高密度的无定型碳膜。 产品特点 1. 极限真空度可达1x10-6mbar 2. 新的LED状态指示灯 3. 16G内存可以存储1000个以上条件设置记录 4. 新软件允许多用户界面设置 5. 新的电容触摸屏设计 |
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