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全谱电感耦合等离子光谱仪Plasma 2000
全谱电感耦合等离子光谱仪Plasma 2000图片
产地:北京
光学分辨率:0.007nm(200nm处)
稳定性:RSD ≤2.0%(大于3小时)
重复性:RSD ≤0.5% (1mg/L) (n=10)
检出限:zn213.856nm,≤0.003
波长范围:165nm~900nm
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产品介绍

钢研纳克ICP光谱仪源于钢铁研究总院,35年电感耦合等离子体光谱仪方法开发经验,数十项ICP检测标准的起草单位,ICP光谱仪产品标准GB/T 36244-2018起草单位,重大科学仪器专项《ICP痕量分析仪器的研制》牵头单位,国产ICP光谱仪制造商。

Plasma2000型电感耦合等离子体发射光谱仪是钢研纳克“国家重大科学仪器设备开发专项”成果。采用中阶梯光栅光学结构和科研级CCD检测器实现全谱采集。仪器稳定性好、检测限低、快速分析、运行成本低。

Plasma2000型电感耦合等离子体发射光谱仪可用于地质、冶金、稀土及磁材料、环境、医药卫生、生物、海洋、石油、化工新型材料、核工业、农业、食品商检、水质等各领域及学科的样品分析。可以快速、准确地检测从微量到常量约70种元素。

1、中阶梯光栅与棱镜交叉色散结构,径向观测,具有稳健的检测能力。

2、高效稳定的自激式固态射频发生器,体积小巧,匹配速度快,确保仪器的高精度运行及优异的长期稳定性。

3、高速面阵CCD采集技术,单次曝光获取全部谱线信息,真正实现“全谱直读”。

4、功能强大的软件系统,简化分析方法的开发过程,为用户量身打造简洁、舒适的操作体验。

Plasma 2000 电感耦合等离子体发射光谱仪技术参数

1. 光学系统:中阶梯二维分光光学系统,焦距400mm

2. 谱线范围:165nm~900nm,光学分辨率:0.007nm(200nm处)

3. 光栅规格:中阶梯光栅,52.67刻线/毫米,尺寸:100mm x 50mm

4. 晶体管固态射频发生器,小巧高效

5. 27.12MHz频率提高信噪比,改善了检出限

6. 自动匹配调节

7. 全组装式炬管,降低了维护成本

8. 计算机控制可变速12滚轴四通道蠕动泵,具有快速清洗功能

9. 实验数据稳定性良好:重复性 RSD ≤0.5% (1mg/L) (n=10);稳定性:RSD ≤2.0%(大于3小时)

稳健高效的全固态光源

全固态射频发生器,体积小、效率高,全自动负载匹配,速度快、精度高,能适应各种复杂基体样品及挥发性有机溶剂的测试,具有优异的长期稳定性。

垂直炬管的设计,具有更好的样品耐受性,减少了清洁需求,降低了备用炬管的消耗。

简洁的炬管安装定位设计,快速定位,精确的位置重现。

实时监控仪器运行参数,高性能CAN工业现场总线,保障通讯高效可靠。

精密的光学系统

中阶梯光栅与棱镜交叉色散结构,使用超纯SiO2棱镜,高光路传输效率,保证了深紫外区的元素测量。

优化的光学设计,采用非球面光学元件,改善成像质量,提高光谱采集效率。

光室多点充气技术,缩短光室充气时间,提高紫外光谱灵敏度及稳定性,开机即可测量。

光室气路独立,可充氮气或氩气。

包围式立体控温系统,保障光学系统长期稳定无漂移。

进样系统

仪器配备系列经过优化的进样系统,可用于有机溶剂、高盐/复杂基体样品、含氢氟酸等样品的测试。

使用一体式炬管,易于维护,转换快速,使用成本低。

使用质量流量控制器控制冷却气、辅助气和载气的流量,流量连续可调,保障测试性能长期稳定。

4通道12滚轮蠕动泵,泵速连续可调,确保样品导入稳定性。

检测器

大面积背照式CCD检测器, 全谱段响应,高紫外量子化效率,抗饱和溢出

具有极宽的动态范围和极快的信号处理速度

一次曝光,完成全谱光谱信号的采集读取,获得更为快速、准确的分析结果

同类产品中超大靶面尺寸,***像素,单像素面积24μm X 24μm

三级半导体制冷,制冷温度低于-35℃,具有更低的噪声和更好的稳定性


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