GDA Alpha采用**研发的CCD检测器，使得辉光放电光谱仪技术迈入了一个全新的时代。

GDA Alpha装备有**一代的CCD固态检测器，与高分辨率光学系统**匹配。新一代的CCD检测器不但具备传统光电倍增管的低噪声、宽动态范围的特点，而且还具备优异的分辨率和全谱数据采集能力，特别适合同时需要高精度检测和分析灵活性的用户。

高分辨率CCD光学系统使得GDA Alpha具备无限的扩展能力，允许使用者在任何分析方法下任意扩展和增加任何分析通道。

这种灵活性允许进行快速的基体总量和涂镀层分析，所有元素，包括O，N，C等非金属元素均可进行定量分析。

在含量-深度测量中，分析深度可达200um以上， 层分辨率可达纳米级。GDA Alpha也可进行基体总量分析，尤其对于复杂基体，具备优异的线性校准曲线。检出限可达ppm级。

GDA Alpha装备有**一代的辉光激发光源，溅射直径从1mm至8mm，可适应多种类型的样品分析，方便快捷。

应用 热处理

-精确测量所关心元素的含量-深度分布，定性、定量检测表面污染物、夹杂物和物相比例

-涂镀层

可获得涂镀层完整的化学组分信息、层厚度，元素含量-深度分布。

-硬质合金层

快速分析硬质合金层和热处理工件的渗层化学组分

-化学组分

精确测量化学元素含量

高精度、高重复性检测

快速分析：<60s

可分析从H至U的所有元素， 检测范围从ppm至100%

辉光放电光谱仪主要应用领域

汽车制造及零部件

金属加工、制造

冶金

航空、航天

表面处理：化学气相沉积、物理气相沉积等

电镀

光伏电池、锂电

科学研究

激发光源

同一激发光源允许安装直径为1mm至8mm电极，从而保证优秀的稳定性和重复性

-高效的样品直接冷却。可直接分析金属薄膜、热处理层。如可直接分析50um的不锈钢薄膜

-优化的氩气流量控制，可以同时实现低检出限和高深度分辨率

-专门设计的自动清扫装置，保证了高精度、高重复性测量

-最大样品分析厚度45mm，最小厚度50um

-完全程序自动控制的直流光源(DC)，电压最高可达1500V，电流250mA

-选装件：自动进样器，程序控制100位

光学系统

高性能CCD光学系统，光谱范围120--800nm

-光谱分辨率优于20pm(FWHM)

-Paschen-Runge光学系统， 焦距400mm

-全息原刻光栅，2400线/mm

-光室恒温控制，仪器稳定性优异

-可无限制的配置分析通道，所有元素同时检测

-方便易操作的透镜清洁，可立即进行分析

-CCD检测器的灵敏度可自动调节

真空系统

-全不锈钢壳体，可充分保证痕量元素的分析，尤其对于N元素分析

-光室真空采用二级旋转叶片真空泵，噪音<50dB

-单泵设计，同时运用于光源和光室

-特殊的旋片真空泵，可最大限度的减少C，H元素的污染

-内置安全阀设计，以避免突然断电对旋转叶片泵的损害

WinG DOES软件

-WindowsXP或更高平台运行

-使用界面简单、易懂，分级管理和操作

-功能强大

-方法建立简便，在线指导

-校准样品管理，**样品添加

-多种校准模式

-基体总量元素测量校准

-QDP定量分析校准

-用户定制测量报告模式

-数据处理和再处理功能

-多种格式数据输出

-分析过程中界面语言切换