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赛默飞(原FEI)ELITE 系统
赛默飞(原FEI)ELITE 系统图片
产品介绍

随着“超越摩尔定律”技术的普及,封装和组装相关缺陷变得越来越难以识别。互连更加精细、更加复杂;芯片和封装被堆叠并平铺为复杂结构。焊点间距更小,而基板则采用更高的图案密度和嵌入式组件。缺陷在不断增加,缺陷检测则变得更加困难。

通过使用具有最高灵敏度的高分辨率锁相热成像 (LIT),ThermoScientific™ ELITE™系统为各种缺陷类型的通孔封装缺陷、片上缺陷甚至板载电气缺陷的定位提供了一套重要解决方案,这些缺陷包括电源或线路短路、ESD 缺陷、电流泄漏、氧化伤害、缺陷晶体管和二极管、器件闩锁以及电阻性开路。

ELITE 是**款可为二维和三维器件提供动态无损实时 LIT 的完全集成系统。作为市场***,ELITE 系统的设计采用专有的高灵敏度 InSb 摄像头、定制光学器件和高级算法,具有出众的性能,并可以在最短时间内获得结果,通过为失效分析工程师提供根本原因分析所需的关键信息,有效缩短分析学习的周期。

另外,由于具有所有无损技术中***热灵敏度,ELITE 系统能够检测**挑战性的缺陷,无需开封检查或从封装中取出芯片,甚至无需对 IC 器件进行剥层,因而消除了使用有损方法时意外遗漏故障的风险。

此外,ELITE 系统可与其他无损技术(例如扫描声学显微镜 (SAM) 或二维和三维 X 射线技术)相结合,通过传递故障位置的精确 x、 y 和 z 坐标,加快获得结果的速度并提高成功率,从而在需要深度信息或存在微小特征时显著缩小 X 射线和 SAM 的搜索半径并缩短检查时间。ELITE 系统还提供配备固体浸没透镜 (SIL) 和 S-LSM 选项的高分辨率光学器件,可实现最高水平的分辨率和图像质量。

主要优势:

完全无损,无需开封检查,无需逆向处理,没有遗漏或损害缺陷证据的风险

快速识别 精确定位集成电路板上的缺陷元件

定位缺陷在x-y方向有微米精度,深度定位精度20 μm

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