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FT150荧光X射线镀层膜厚测量仪
FT150荧光X射线镀层膜厚测量仪图片
产地:日本
行业专用类型:通用
重复性:0.1%
能量分辨率:140eV
分析含量范围:1ppm~99.99%
元素分析范围:Na~U
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产品介绍

概要:

使用新开发的X射线聚光用多毛细管的产品阵容诞生了。另外,FT150系列以X射线检测结构为中心,对各类元件进行**优化,从而大幅提高了检测灵敏度,在不损失检测精度的前提下实现了的高处理能力。并且,对设备进行了重新设计,使得样本室的使用,以及对检测点的检查变得更为容易。

参数:

基本参数:

型号:FT150(标准型)FT150h(高能量型)FT150L(大型线路板对应)

测量元素:原子序数13(Al)~92(U)

X射线源:管电压:45 kV

FT150:Mo靶 FT150h:W靶 FT150L:Mo靶

检测器:Si半导体检测器(SDD)(无需液氮)

X射线聚光:聚光导管方式

样品观察:CCD摄像头(100万像素)

对焦:激光对焦、自动对焦

最大样品尺寸:FT150:400(W)×300(D)×100(H)mm

FT150h:400(W)×300(D)×100(H)mm

FT150L:600(W)×600(D)×20(H) mm

工作台行程:FT150:400(W)×300(D)

FT150h:mm400(W)×300(D)

FT150L:mm300(W)×300(D) mm

操作系统:电脑、22英寸液晶显示屏

测量软件:薄膜FP法(最多5层膜、10元素)、检量线法、定性分析

数据处理:Microsoft Excel、Microsoft Word 安装

安全功能:样品门联锁

消耗电量:300 VA以下

特点:

1.显微领域的高精度检测

通过采用新开发的多毛细管,以及对探测器的优化,在实现照射半径等同于旧有型号FT9500X为30 μm(设想FWHM: 17 μm)的基础上,进一步将处理能力提高到了2倍以上。

2.产品阵容适应各类检测样本

针对检测样本的不同种类,可在下列3种型号中进行选择。

●测量引线架、连接器等各类电子元器件的微型部件、超薄薄膜的型号

●能够处理尺寸为600 mm×600 mm的大型印刷电路板的大型印刷电路板用型号

●适合对陶瓷芯片电极部分中,过去难以同时测量的Sn/Ni两层进行高能测量的型号

3.兼顾易操作性与安全性

放大了开口,同时样本室的门也可单手轻松开闭。从而提高了取出、放入检测样本的操作简便性,并且该密封结构也大大减少了X射线泄漏的风险,让用户放心使用。

4.检测部位可见

通过设置大型观察窗、修改部件布局,使得样本室门在关闭状态下亦可方便地观察检测部位。

5.清晰的样本图像

使用了分辨率比以往更高的样本观察摄像头,采用全数码变焦,从而消除位置偏差,可以清晰地观察数十μm的微小样本。

另外,亦采用LED作为样本观察灯,无需像以往的机型那样对灯泡进行更换。

6.新GUI

将各类检测方法、检测样本都以应用程序图标的形式进行了登记。图标皆为检测样本的照片、多层膜的图示等,因此登记、整理起来就很方便,从而使得用户可以不走弯路,直接进行检测。

使用检测向导窗口来指导操作。通过与检测画面联动,逐步引导用户执行当前所需进行的工作。

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