产品介绍 物理特性薄膜表征系统,高度集成且易于使用的测量平台。 薄膜的物理性质不同于大块材料,因为由于尺寸较小和高纵横比使寄生表面效应更强!
LINSEIS薄膜物性分析仪是表征各种薄膜样品优异测量工具。它是一种易于使用的独立系统,使用正在申请专利的测量系统设计,可提供高质量的结果。 组件 基本设置包括一个可以轻松沉积样品的测量芯片,以及提供所需环境条件的测量室。根据应用,该设置可与锁定放大器和/或强电磁铁一起使用。 测量通常在UHV下进行,并且在测量期间使用LN2和强力加热器将样品温度控制在-170°C和280°C之间。 预制测量芯片 该芯片将用于热导率测量的3ω技术与用于测量电阻率和霍尔系数的4点Van-der-Pauw技术相结合。赛贝克系数可以使用位于Van-der-Pauw电极附近的附加电阻温度计来测量。 为了便于样品制备,可以使用剥离箔掩模或金属阴影掩模。 该配置允许几乎同时表征通过PVD(例如热蒸发,溅射,MBE),CVD(例如ALD),旋涂,滴铸或喷墨打印制备的样品。 该系统的一大优点是在一次测量运行中同时确定各种物理特性。所有测量都采用相同(平面内)方向,并且具有很高的可比性。 基本测量单元 : 测量室,真空泵,带加热器的支架,电子颊侧装置,集成锁相放大器,3w方法分析软件,计算机和应用软件。可测以下物理参数: • λ-热传导系数 (稳态法/平面内方向) • ρ - 电阻率 • σ - 电导率 • S - 赛贝克系数 • ε – 发射率 • Cp - 比热容 磁测量单元 可根据需求选择集成式电磁铁,可测物理参数如下: • AH - 霍尔常数 • μ –迁移率 • n -载流子浓度 薄膜材料性能有别于块体材料之处 - 因小尺寸和高纵横比所导致的表面效应如:边界散射和量子限域效应 |
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