Hiden HPR30过程气体分析质谱仪
产品介绍 技术参数: HPR-30真空过程气体分析系统(Process Gas Analyser),适用于监测分析残余气体和真空工艺过程中的气体组成及变化。 应用: · CVD / PECVD / RIE / LPCVD / MOCVD · 真空涂覆/ 等离子刻蚀 · 沉积溅射 · 污染物研究 · 基本压力辨别 · 泄漏探测/ 实质泄漏/脱附分析 · 除气/烘烤/泵效能 · 反应室/过程气体污染物 特点: · 简洁的桌上型,移动推车或控制台架结构 · Direct re-entrant流孔板,差式泵,以达到最适宜的灵敏度 · 连续取样从10-4mbar至1mbar. · 高灵敏度(**可至5ppb),质量数可选至1000amu · 软离子化技术,分析复杂有机物,或表观MS研究 · 稳定性好(24h之上,峰高变化小于±0.5%) · MASsoft软件控制,或由局域网进行多个系统控制 · 气动阀自动控制;出现电力不足或压力过大等不安全状况时可启用手动隔离装置 · 自动、同时数据取得、分析,实时显示、报警 |
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