技术参数：

●节约环保设计理念，采用比阻抗控制技术，来抑制超纯水中静电的发生。

●在半导体制造和FPD制造、晶元（芯片）切割工序

中被用来对超纯水进行比阻抗的控制，防止 静电破坏和微粒子的附着。

●Advanced resistivity control technology eliminates electrostatic charge in

high-purity water.

●Rinse water resistivity can be controlled in the best condition at the dicing

process of semiconductor industries or high pressure rising process at the FPD.

主要特点：

●可根据用途选择相应机型

●装机容易

全机型阻抗探头内置，配管容易。

●大水量，压力损失小

水量3000L/h时，压力损失0.06MPa

●操作简单，控制精度高

开机后只需输入所要阻抗值，即可马上进行±0.03MΩ/cm精确控制。

●可在高水压环境下运行

最高使用压力在0.5MPa，可以自由进行机种配置。

●水量变动应答速度快

使用水量发生很大变化时也能迅速做出调整控制。

●经济环保

不需要Co2溶解膜等旧式机种必不可少的高价的消耗品，Co2排气和排水也不要。

●双氧水杀菌对应

可用3%双氧水进行杀菌处理，细菌繁殖也不用担心。

机型 Rack type N4R-1.0-50 N4R-2.0-120 N4R-3.0-120

Model Cabinet type N4C-1.0-50 N4C-2.0-120 N4C-3.0-120

处理量 Water flow rate 100--1000L/h 200--2000L/h 300--3000L/h

控制范围 Controllable range 0.15--1.7MΩ/cm 0.15--1.5MΩ/cm 0.15--1.9MΩ/cm

精度 Control accuracy Set resistivity±0.03MΩ/cm

最大水压 Max.Inlet water pressure 0.5MPa

CO2压力 Max.Co2 pressure 0.7MPa

压力损失 Pressure drop 0.06MPa at 3000L/h

接口尺寸 Connection ports 3/4"female screw

重量 外形尺寸 Rack type 28Kg 480W*430L*250H(mm)

Weight Outside dimensions Cabinet type 67Kg 430W*430L*1350H(mm)

电源 Power supply AC100--130V，AC220--240V，50/60Hz，single phase 1A