SilcoNert®2000
产品介绍 SilcoNert®2000(6,444,326和6,511,760)是非晶硅的化学保护屏障,其进一步官能化以提供可用的最惰性表面。通过应用化学气相沉积(CVD),SilcoNert®2000非常适用于硫化物,汞,氨或其他活性化合物的痕量级测试精度(<百万分之一)。 特色与优势 ? 非视距工艺;所有孔和复杂的几何形状都能被涂层 ? 消除吸附和再测试 ? 获得更快的校准 ? 对结果充满信心 SilcoNert®2000 规格 薄膜材质:表面烃化的氢化非晶硅 镀膜工艺:热化学气相沉积法(非等离子法) 使用温度:450°C(惰性气体),400°C(氧化性气体) 基板要求:兼容性:不锈钢合金,陶瓷,玻璃,钛及大多数特殊金属 尺寸:不超过78英寸(198厘米) 形状:不限,可镀任何复杂三维结构 标准厚度:100 - 500 nm 疏水性(接触角):>= 65° 允许接触的pH值 :0 - 8 |
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