Monowave 400 为微波合成研究提供了一个全新和先进的工具，使微波合成达到了****的可靠性和性能。

Monowave 400提供300℃和30 bar（435psi）的单模微波工作温度和压力，为合成方法开发和反应优化提供了全新空间。

Monowave 400微波场密度保证了在任何反应体积、任何反应溶剂都能得到可重复的和出色的加热速率，无需使用任何辅助加热元件。先进的红宝石晶体发光光纤传感器保证了实时的反馈控制，同时也实现了高精度的温度测量。

超乎想象Monowave 400可以使您能在以前不可能达到的条件下使用某些试剂和溶剂。使您能突破常规单模合成的限制进行方法的开发，来研究温度和压力的提高对反应活性和反应过程的影响。

就利用Monowave 400的高效搅拌和标准内置温度测量来试一下您的微波反应。纸上没有吹嘘，但是终究百闻不如一见。您能感受到的独特优势:

快速和一致的加热

方便内部温度测量

高准确性和再现性

新方法开发的新空间

强力的搅拌有助益混合

用户友好的智能软件

内置8.4’’触摸屏控制器

满足多领域的应用的伙伴

制药研究：

方法开发和优化

构建单元合成

中间体修饰和骨架分子修饰有机化学:

杂环合成

金属催化

键形成反应

缩合反应

加环反应

固相合成

生物医药:

衍生反应

多肽合成

材料化学:

纳米颗粒制备

分子筛合成

高分子材料合成

技术参数：

--实现高的单模合成条件：300^oC和30 bar（435psi）

--850W连续非脉冲微波

--微波场密度

--超常的加热速度（3-9^oC/秒）

--0～1200rpm连续可调的高效磁力搅拌

--自动调谐微波腔保证不同体积和极性的溶剂的高效加热

--仪器内置摄像头，通过显示屏直观观察反应管内部状况

--满足21CFR Part11 要求

--反应时间高达100小时

主要特点：

--- 全面反应控制记录内置液压传感器使反应范围更广

内置红外温度传感器进行常规温度测量先进的光纤温度传感器实现对内部反应温度的精确控制

自动式气动控制过压安全释放功能

30mL碳化硅管，快速加热非极性溶剂

850W，更高的功率，更快的加热速率

--- 8.4英寸触摸屏控制系统

全新智能控制软件，具有逻辑触摸屏导航明亮的大控制图标使操作简单容易

不同操作者设定不同控制权限

内置AFAP快速加热模式或自己设定多步反应程序

重要样品可设定优先排队选项

---- 完整的数据管理

彩色反应曲线图同时显示所有相关参数局部放大功能进行可获得更详细信息

方法库可存1000个方法

可通过USB进行数据导出

直接生成pdf格式的反应报告