对天然的、富含杂质的矿石物质的抛光过程要比普通的岩石样品抛光困难的多。对物质的抛光要与该物质的地质属性相一致，此设备磨抛不同岩石薄片其厚度可以精确调节。

该产品对样品的抛光会在同一时间内进行三个方面的操作：

1）抛光盘的自动旋转。 2)样品夹持器自旋转。 3)磨料自动滴入。

该设备同时处理1至5个样品薄片，可以在几分钟内同时完成打磨1个或5个样品的**面。每个样品都有单独设置厚度的压片器（5个样品最大尺寸是30X45mm; 3个样品最大尺寸是45X60mm）。

2) 抛光过程是定时控制，没有其它外力干扰，运转时间可控，精确控制薄片厚度。

性能：

磨头：1-5个

转速：25到200rpm

标准样品尺寸：30x45mm， 60x45mm，特定

计时器：1到60分钟

抛光盘直径：200mm， 硬度可调

多种抛光料：6um， 3um， 1um

50张抛光布：Φ200 mm

同时可以使用Φ150至Φ250 mm的抛光盘