最近，德国LEICA推出了新一代薄膜测厚仪DRM1000以应对微电子，半导体产业的新高潮。该膜厚仪的先进性在于：

--最小光斑可达1微米

--既使用显微光谱反射法又能使用白光干涉法进行测量半导体薄膜厚度

--德国LEICA顶尖的光学显微镜系统

--自动建模和海量光谱数据

德国LEICA DRM1000 显微光谱薄膜测厚仪是对薄膜的反射光谱的干涉图样进行分析来进行膜厚测量，最小测量光斑可达1微米。该系统由德国LEICA DM4M，DM6M等显微镜和膜厚测量模块组成，由于它的快速运算，使得它可高重复率进行膜厚的光学测量以及对膜的相关计算。另外，它的新型自动建模功能：可为待测的样品与光谱库里的数据快速的比较，来自动建模。是真正适合半导体，液晶等微电子行业进行在线膜厚检测新型高端仪器。

LEICA DRM1000膜厚仪还可使用白光干涉和双光干涉进行膜厚测量。

技术参数：

测量方法：非接触式

测量原理：反射光谱法

测量样本大小：最大为12 inch -300mm

测量范围：500?~ 20?（Depends on Film Type） 选配干涉测量模块时最小30?

光斑尺寸：最小可达1微米

测量速度：300ms

准确性： 1nm （典型：400nm Sio2/Si）

精确度：0.3nm （典型：400nm Sio2/Si）

光谱范围： 450 – 920nm

应用领域：

半导体: Poly-Si， GaAs， GaN， InP， ZnS + Si， Ge， SiGe...

电解质: SiO2， TiO2， TaO5， ITO， ZrO2， Si3N4， Photoresist， ARC，...

平板行业：（包括 LCD， PDP， OLED， ）: a-Si， n+-a-Si， Gate-SiNx MgO， Alq， ITO， PR， CuPc， NPB， PVK， PAF， PEDT-PSS， Oxide， Polyimide...

光学涂层：: 减反射膜， Color Filters...

太阳能电池 Doping a-Si（i-type， n-type， p-type）， TCO（ZnO， SnO， ITO..）

聚合物: PVA， PET， PP， Dye， Npp， MNA， TAC， PR...

Recordable materials: Photosensitive drum， Video head， Photo masks， Optical disk