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MicroMaster 激光直写光刻机
MicroMaster 激光直写光刻机图片
产地:荷兰
光源波长:375nm; 405nm
曝光模式:投影式
曝光面积:最大110X110mm
光强均匀性:± 0.5%
光源:氮化镓激光二极管
分辨率:250nm;300nm
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产品介绍

MicroMaster 激光直写光刻机

MicroMaster 是一款多功能的紫外激光写入器,具有高精度的组件,专为用户在感光层上设计创建最高自由度的微结构。MicroMaster 是一个完整的操作系统。它拥有405纳米波长光学模块,能够在光阻层中写入最小0.8微米的结构。这个用户友好的工具支持高达4095级的灰度或纯二进制模式,并允许3D光学结构,表面结构以及掩模项目。 激光控制的实时自动对焦和激光强度控制,确保整个曝光过程中的高质量成像。MicroMaster 广泛应用于半导体光刻, LED芯片, 微流控芯片, 微纳结构, 灰度光刻, 三维加工, 全息影像等多个领域。

MicroMaster 无掩模激光直写系统性能规格

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