EMITECH K550 离子溅射镀膜机
K550X具有旋转样品台，它也可倾斜，非常适合各种样品使用。预选择参数及全自动控制使得精确镀层及重复厚度沉积更为方便。
使用磁电管靶在低电压时可提高效率，K550X能得到非常精细的颗粒，由于是冷溅射，所以无需冷却靶面或样品台。
腔室直径为165 mm(6英寸)，非常方便装载及移走样品。
仪器装有60mm直径、0.1mm厚的金靶(或用户选择)，提供最适合的性能价格比。可选靶材包括金/钯，铂/钯和铂。
功能集中在仪器面板上及即插即用电子学设计，最大的“up-time”，这些用户友好设计满足了不同学科的用户需求。
溅射参数可被预先设置，包括气体放气针阀，此阀为电磁阀，一旦设置，它就不需要再调节。溅射头互锁，系统可容易选配K250镀碳附件。
本仪器为全自动操作，可控制独立的真空泵。

仪器特点
·高分辨率精细涂层(金颗粒达2 nm)
·均匀厚度沉积(用于扫描电镜的一般厚度为20nm 或200埃)
·可接膜厚监视器，实时监测镀覆层厚度
·易操作
·无需冷却样品台
·精确的再次涂层
·适合各种样品
·膜厚度重复性好
·容易装载或卸载样品
·可预设沉积厚度

性能指标
1.仪器尺寸:450mm W x 350mm D x 175mm H
2.工作腔室:硼硅酸盐玻璃 165mm Dia x 125mm H
3.安全钟罩:聚碳酸酯
4.重量:18公斤
5.靶:60 mm 直径 x 0.1mm 厚(金作为标准靶面)
6.样品台直径为60 mm，靶面距离40mm，具有倾斜装置的旋转台
7.真空范围:ATM-1x10-4 mbar
8.沉积电流范围:0-50mA
9.沉积速率:0-25nm/分
10.溅射时间:0-4 分钟
11.预设置针阀:控制氩
12.电源:230 伏 50Hz (10 amp max. including Pump)