产地:北京
扣背景技术:塞曼扣背景 检出限:火焰(Cu) , C L :≤0.003μg/mL 分辨率:0.2nm 重复性(RSD):火焰(Cu) :≤0.6% 灵敏度:≤±0.003A/30min 检测器类:光电倍增管 光学系统:双光束 单色元件:凹面光栅 索取资料及报价产品介绍 双灯位、三路气设计。 塞曼背景校正光路及其系统专利ZL 20技术。 恒定磁场、横向塞曼,准双光束系统,稳定可靠。 全波段扣背景,特别适用于基体复杂的样品分析。 1.波长自动扫描,实现波长定位。 2.光谱带宽自动切换。0.2,0.4,1.0,2.0nm四档可选。 3.自动增益,自动灯电流,能量自动平衡。 4.Czerny-turner型光路设计,焦距仅为270mm,光程短,减少光的衰减,能量强。 5.采用1800条刻线/mm全系平面光栅,分辨率高。 6.采用耐高温,抗腐蚀金属钛合金燃烧器,可三维调节。 7.采用特殊处理技术的高强度混合雾室,抗腐蚀,易清洗,无记效应。 8.采用抗腐蚀,带有撞击球的同心玻璃雾化器。 9.新设计的仪器外型,采用全塑材料外壳,避免实验室酸性气体腐蚀,经久耐用。 10.具有完善的安全联锁保护装置和防回火装置,在断电,断气等意外情况下。仪器自动切断燃气。 11.具有火焰发射测量功能,可对钾,钠,锂等碱金属提供多种测量方式。 12.基于Windows7/8平台的人性化处理软件,提供了方便快捷的控制功能和数据处理功能。 13.测量条件和测试数据可快速导入EXCEL,实现在线编辑,网络资源共享。 14.测量方式:原子吸收,背景矫正,塞曼背景测量,火焰发射。 15.读数方式:浓度直读,信号平均值,峰高,峰面积等方式。 16.自动扣除零点漂移对测量结果的影响。 特点: 1.采用塞曼背景校正光路及其系统 ZL 20 2.采用直流恒定磁场(1T),横向塞曼扣背景方式,稳定可靠。 3.全波段扣背景,特别适用于基本复杂的样品。 4.准双光速原子吸收,系统由样品和参比两个通道组成,稳定好。 5.采用可靠,便捷的元素灯切换方式,元素灯无需预热即可测量。 6.磁钢采用水循环冷却方式,可保证磁场强度不会随温度变化而变化。 7.磁钢具有自动报警装置。 8.辅助气设计,减少了样品引入对火焰状态和原子化温度的影响。 更适合于有机样品和小提升样品的分析。 9.具有塞曼扣背景功能,扣背景能力大于80倍,远远优于氘灯扣背景技术。 |
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