H20-UVL真空紫外光谱仪

产地:法国

产品介绍

产品简介

H20-UVL真空紫外单色仪在真空环境下覆盖100-400nm（3-12.4eV），在大气环境下覆盖190nm-400nm（3-6.5eV）。结合真空紫外光源和蜗轮驱动实现快速精确的光谱扫描，可作为一个优异的真空紫外单色光源使用。在分辨率要求不高的情况下，配备单通道探测器，H20-UVL还是一个高性价比的真空紫外光谱分析系统。

技术特点

单片式光学结构确保光通量大化，高光学稳定性

配备4型消像差单色仪光栅，全光谱范围线色散均匀

全自动蜗轮高速驱动光栅

光栅表面镀氟化镁膜，优化120nm以上波长的输出

典型应用

透射反射测量

荧光激发

可调滤波/光源

激光谐波滤波

技术指标

光学设计	HJY的4型消像差单色仪光栅
焦长	200 mm
孔径	f/4.2
刻线密度	1200 gr/mm
光学镀膜	针对121nm优化的MgF2膜
偏转角	64°
色散	100nm处3.6 nm/mm
驱动	高速蜗轮驱动
小步进	0.06 nm
速度	400 nm/s
精度	+/- 0.2 nm或+/-0.06 nm (*)
可重复性	+/-0.06 nm
分辨率	优于0.5 nm (**)
高真空	10^-5 mbar (***)
真空泵法兰	DN40 KF
入射/出射接口	测微狭缝(10 um 至 2 mm)
入射/出射法兰	DN25 KF
电脑接口	USB2.0
可选项
超高真空	10^-9 mbar
狭缝高度调节器	2， 4， 6 mm
(*)使用我们固件中的软件驱动矫正可以提高单色仪的精度
()使用宽10微米，高2mm的狭缝在121nm处测量 (*)H20-UVL不含真空泵和真空计

附件

前镜腔，配备两块超环面镜，实现光源和单色仪之间的光学匹配

后镜腔，配备两块超环面镜，实现单色仪和样品室之间的光学匹配

样品室，可搭载4块直径不大于25mm的样品

偏振插片

制冷机，低至4K

真空泵