TargetSystem 特性

• 显著缩减制备时间

• 不受操作人员技能影响

• **的再现性

• 无需成本昂贵的磨料薄膜

TargetSystem 设计用于微电子组件和扁平化目标制备。这是**款失效分析工具，可对可见目标和隐藏目标进行实时对齐和测量，例如微型穿孔和 BGA。系统精度高达 +/- 5 μm。

较短的制备时间

智能制备系统 (IPS) 可根据实际样品属性和研磨/抛光表面自动调整消除时间和速率。这意味着可将测量和制备时间缩减至 30 分钟以内。