产地:捷克
(离子光学系统)视野范围:1 mm @ 10 keV (离子光学系统)探针电流:<1 pA ~ 100 nA (离子光学系统)分辨率:2.5 nm @ 30 kV (离子光学系统)发射源:镓离子源 (电子光学系统)视野范围:7.0 mm @ WD=6 mm, >50 mm @ 最大WD (电子光学系统)探针电流:~ 400 nA (电子光学系统)分辨率:0.9 nm @ 15 kV (电子光学系统)发射源:肖特基场发射源 仪器分类:FIB-SEM 索取资料及报价产品介绍 TESCAN AMBER 是TESCAN第四代 FIB-SEM 的新成员,是一款超高分辨双束 FIB-SEM 系统,它可以提供****的图像质量,具有强大的扩展分析能力,并能以**的精度、效率完成复杂的纳米加工和操作,可满足现今工业研发和学术界研究的所有需求。 TESCAN AMBER FIB-SEM的优点:
新一代 Orage™ Ga FIB镜筒,适用于各类具有挑战性的纳米加工任务 TESCAN AMBER 配置了**的 BrightBeam™ 镜筒,实现了无磁场超高分辨成像,可以最大化的实现各种分析,包括磁性样品的分析。新型镜筒中的电子光路设计增强了低能量电子成像分辨率,特别适合对电子束敏感样品和不导电样品的分析。创新的 Orage™ Ga FIB 镜筒配有***的离子枪和离子光学镜筒,使得TESCAN AMBER成为了世界**的样品制备和纳米图形成型的仪器。 TESCAN AMBER 束流可达100nA,具有超快速的加工能力,新颖的 SmartMill 高速切割功能,使得加工效率提升一倍。 TESCAN AMBER 离子能量最低可达500eV,拥有更优秀的低压样品制备能力,可以快速制备无损超薄TEM样品。 可以配置TESCAN自有或第三方的多种扩展分析附件,并**实现与TOF-SIMS、Raman一体化。 新一代OptiGIS™气体注入系统TESCAN AMBER 可配置**的多种探测器,包括透镜内Axial detector 以及 Multidetector,可选择不同角度和不同能量来收集信号,体现更多种类的信息,同时获得更好的表面灵敏度和对比度。TESCAN AMBER 有两种气体注入系统可供选择,标准的5针-GIS和新一代OptiGIS单针-GIS,单针的OptiGIS支持通过更换气罐来更换化学气体,避免了以往多针气体注入系统样品仓内占用空间大的问题。 两种气体注入系统均可以选择多种沉积气体,其中W、Pt、C等用于导电材料沉积,SiOx用于绝缘材料沉积,XeF2、H2O等用于增强刻蚀,或其它定制气体。 新一代Essence™操作软件,更简单、高效的操作平台TESCAN AMBER 可配置**的多种探测器新操作软件极大简化了用户界面,能快速访问各主要功能,减少了繁琐的下单菜单操作,并优化了操作流程向导,易于学习,兼容多用户需求,可根据工作需要定制操作界面。 新颖的样品室内3D空间位置和移动轨迹模拟功能,可避免误操作,造成碰撞。
集成多项创新性设计,拓展新应用领域的利器TESCAN AMBER 可配置**的多种探测器,集成了BrightBeam™ SEM镜筒、Orage™ Ga-FIB镜筒、OptiGIS气体注入系统等多项创新设计,在高分辨能力、原位应用扩展能力和分析扩展能力方面达到了业内**水平,此外新一代操作流程和软件也给使用者带来更舒适、高效的体验。 * TESCAN AMBER 是 S8000G 升级机型。 |
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