产品特色：
1.单镀层、多镀层膜厚测量。
2.采用聚光式的极小光束(0.1 mm)设计，对於镀金膜浓的测定可测量到比以往机型强50倍的X射线强度，能精确的测量纳米等级的薄膜。
3.高精度测量Au/Pd/Ni/Cu和Au/Ni/Ti/Si等的多层膜的各层膜厚及浓度。
4.高感度的Vortex侦测器，加上使用了极小的X射线光束来进行绘图测量，因此能简单且迅速地测量样品的电镀浓度的元素分布和特定元素的浓度。
5.高速Mapping能力。
基本规格：
可测原素 | 原子编号 13(Al) ～ 83(Bi) |
X射线管 | 管电压∶ 50kV 管电流∶ 1.5mA |
检测器 | 半导体检测器 |
X射线聚焦光学系统 | Capillary |
X-ray Beam Size | 0.1mmΦ |
样品观察 | CCD 摄像机(光学变焦) |
对焦方式 | 雷射对焦 |
滤波器 | 一次滤波器 |
X-ray Station | 台式电脑 |
(OS: MS-Windows XP)， 19”LCD |
打印机， 光碟 | 喷墨打印机， 光碟 |
测定软体 | 薄膜FP法 (最多五层，每层10元素) 检量线法 (单层和双层， 金属薄膜之组成) |
定量分析功能 | 块体FP法 |
选购 | Mapping 软体， HS精度管理快速分析软体， 材料鉴别软体， 图像分析软体 |
分析功能 | 单点测试， 扫描分析 |
定性分析功能 | 能谱测定，自动辨别，图谱比较，图像分析 |
资料处理 | 搭载MS-EXCEL MS-WORD |
安全机能 | 测量室门自锁功能，Z轴防冲撞功能，仪器自诊断功能 |
应用领域：
