GE Vtomex L 450 高精密大型CT系統
产品介绍 主要功能: 雙X射線源( 450kV常規焦點射線管和240kV為焦點射線管) 專門強化應用於CT - 以金屬/陶瓷材料設計,用於大型和高吸收的樣品之細膩CT掃描 雙檢測器(平板檢測器和陣列檢測器) 高對比度平板檢測器,2048x2048像素 高精密10軸機械控制平台 雙轉台,快速實現工具3D檢測與2D成像的切換 高達10倍的增加的燈絲壽命,通過長壽命的燈絲(可選配)確保長久穩定性和**系統效率 通過高動態溫度穩定的GE DXR數位探測器獲取的30 FPS(幀每秒)(可選配)的快速CT採集和清晰的活動影像 可進行超高精度的3D數據測量 效益特點: 測量軟體用於空間測量,具有極高精度、再現性,而且操作簡單 使用極佳的軟體模組以確保***CT品質且便於使用,例如 1. 通過點擊並測量|CT使用datos|x 2.0進行高度可重現的3D測量: 全自動化執行的CT掃描,重建和分析過程 2. 通過 VELO | CT在幾秒鐘或幾分鐘內(取決於體積大小)完成更快的3D CT重建 
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| 複雜的渦輪葉片鑄件可利用3D精確地分析故障部位 | 玻璃纖維和礦物填料(紫色)的凝聚體的方位和分佈都清晰可見。 纖維寬度大約為 10 µm | 
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| 19股線進入,但只有17股線退出壓接區,由於缺乏材料,壓接區內形成了小空洞 | 對氣缸蓋的三維測量 | 
| | 鋁鑄件的3D微焦點電腦斷層掃描(micro ct)含有一些空隙率 | |
設備規格 | | 最大管電壓 | 450 kV (可選配 2 X-ray射源(240 kV微焦點和450 kV微焦點的X射線管)) | 最大功率 | 1500 W | 細節檢測能力 | 高達1µm | 最小焦物距 | 4.5 mm | 最大3D像素分辨率(取決於物體大小) | < 1.3 µm | 幾何倍率(2D) | 1.25 倍到 555 倍 | 幾何放大倍率 (3D) | 1.25 倍到 333 倍 | 最大目標尺寸(高 x 直徑) | 1000 mm x 800 mm / 39" x 31.5" | 最大樣品重量 | 100kg/ 220.5lb | 操作 | 提供長時間且穩定與高精密的花崗岩基底的7軸操作器 | 2D X-ray射線成像 | 可以 | 3D電腦斷層掃描 | 可以(可簡易轉換2D檢測和3D電腦斷層掃描模式) | 進階的表面選取 | 可以(可選) | CAD 比較+ 尺寸測量 | 可以(可選) | 系統尺寸 | 6500 mm x 3400 mm x 3300 mm / 256” x 134” x 130” | 系統重量 | 約 22 t / 143300 lb | 輻射安全 | - 全防輻射安全機櫃,依據德國ROV和美國性能標準 21 CFR 1020.40 (機櫃X-Ray系統)。 - 輻射洩漏率:從機台壁的10cm處測量 <1.0µSv/h。 |
附件: 控制器 使用控制器控制系統的硬碟體元件,配備了雙/四核心的**處理技術 重建/視覺化工作模式 根據目前Intel® Xeon®處理器技術(多CPU和多核心設計)的高端工作站 熱門應用領域: 感測器相關 電子元件(焊點) 半導體元件 鑄件與焊接相關 汽車製造(氣缸蓋) 真空幫浦相關(渦輪葉片) 精密零組件(金屬、塑膠件)
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