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PicoMaster 激光直写光刻机
PicoMaster 激光直写光刻机图片
产地:荷兰
光源波长:375nm; 405nm
曝光模式:投影式
曝光面积:最大110X110mm
光强均匀性:± 0.5%
光源:氮化镓激光二极管
分辨率:250nm;300nm
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产品介绍

PicoMaster 100 无掩模激光直写光刻机

●250纳米分辨率(375纳米激光源)

●300纳米分辨率(405纳米激光源)

●4095灰阶

●业界**实力的成套全息设计软件

●最大125x125毫米基板尺寸

PicoMaster 100 采用波长405纳米二极管激光器,它拥有市场上最小的300纳米激光分辨率。升级375纳米激光源,可以更好地兼容市面上I-line光刻胶材,从而满足更高级别的应用需求。备用光学模块,将大大的降低机器停机时间。更为人性化的软件设计,大大提升了用户实际操作效率,它将是您科学研究、实验开发、设计创新,理想的光学伙伴。PicoMaster 100广泛应用于半导体光刻, LED芯片,微流控芯片,微纳结构,灰度光刻,三维加工,全息影像等多个领域。

PicoMaster 100 无掩模激光直写系统性能规格

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