产品介绍 SEM中EDS分析高空间分辨率和低能端性能。将Extreme电子电路、无窗设计与几何结构和传感器的优化设计相结合,灵敏度比传统大面积SDD高15倍。 设备特点
Ultim Extreme 硅漂移探测器是高分辨率场发射扫描电镜应用的一个突破,可提供远远超越传统微米和纳米分析的解决方案。 Ultim Extreme是Ultim Max系列中的一款无窗能谱,晶体面积100mm2,经优化设计来尽可能提高灵敏度和空间分辨率。它采用跑道型结构设计,优化高分辨率场发射扫描电镜在低加速电压和短工作距离下工作时的成像和EDS性能,使用Ultim Extreme,EDS的空间分辨率接近扫描电镜的分辨率。 Ultim Extreme是高分辨率场发射扫描电镜应用中的一个突破性解决方案。该探测器实现了在低的加速电压(例如1-3kV)和非常短的工作距离下进行EDS数据采集和元素分析,从而在高SEM分辨率下分析纳米材料和表面的元素信息。 高分辨率场发射扫描电镜可以用来研究更小的纳米结构、界面和表面。然而,在这些分析条件下,工作距离很小,工作电压非很低,束流需要尽可能小以充分利用镜筒内探测器的电子信号,但现在没有EDS可提供此类元素表征。Ultim Extreme的出现改变了这种现状,它专为此类分析而设计: 优化的几何设计
无窗设计
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