KASHIYAMA工业株式会社，成立于1946年，多年来致力于真空技术的研究，不断开发进取，在半导体制造领域和高科技行业中拥有极高的信誉。

KASHIYAMA工业的罗茨干式真空泵系列已经成为半导体制造业与液晶显示制造行业的标准设备。

KASHIYAMA干式真空泵/多级罗茨真空泵可以轻松替代旋片/涡旋真空泵，其具有以下优势。

• ? 三年维护一次，延长了设备的使用寿命，降低真空泵的使用成本。

  （注：只抽取空气与氮气的情况下 ）

• ? 设备运转时，旋叶与旋叶、旋叶与腔壁之间没有任何摩擦，保证设备长期正常工作。

• ? 采用空冷式方式，不需配置冷却水，从而节省空间。

• ? 采用气镇（Gas Ballast）结构，可以排出所吸取的水蒸气。

KASHIYAMA干式真空泵/多级罗茨真空泵的应用领域包括半导体制造的苛刻工艺环境，刻蚀设备Metal-Etch，化学气相沉积镀膜设备，PECVD，LPCVD， MOCVD，ALD，真空镀膜、真空退火炉，真空等离子处理，扫描电镜、质谱仪、加速器等。

KASHIYAMA真空泵分为：

• NeoDry系列真空泵

• MU-P/H系列真空泵

• MU-X系列真空泵

• SDE-TX系列真空泵

• SDE-X系列真空泵

• SDE系列真空泵

• SDL系列真空泵