价格电议

美国 KRI 射频离子源RFICP 380 特性:

1. 放电腔 Discharge Chamber， 无需电离灯丝， 通过射频技术提供高密度离子， 工艺时间更长.

2kW & 1.8 MHz， 射频自动匹配

2. 离子源结构模块化设计

3. 自动调节技术保障栅极的使用寿命和可重复的工艺运行

4. 栅极材质钼和石墨，坚固耐用

5. 中和器 Neutralizer， 测量和控制电子发射，确保电荷中性

6. 通气 Ar， O2， N2， others

7. 离子束流: 电流: > 500毫安， 能量 100-1200eV

射频离子源RFICP 380 技术参数

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson， Inc 公司， 研发生产考夫曼离子源， 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项专利. 离子源广泛用于离子清洗 PC， 离子蚀刻 IBE， 辅助镀膜 IBAD， 离子溅射镀膜 IBSD 领域， 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.

若您需要进一步的了解 KRI 射频离子源， 请联络上海伯东叶女士， 分机 109