KRI 考夫曼离子源 RPICP 200

伯东企业（上海）有限公司

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KRI 考夫曼离子源 RPICP 200

产地:美国

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产品介绍

KRI Ion Source RFICP 200， Gridded RF Ion Source

KRI Ion Source RFICP 200 是一款大型的有栅极离子源，离子能量范围 100～1000 eV，非常适合于典型的离子束辅助沉积和离子束刻蚀。特有的大面积束源和高密度使它能够满足一些极端的工艺并获得高的均匀性。因此 RFICP 200 被广泛应用在大型离子辅助的盒式镀膜机和较大尺寸 wafer的离子刻蚀系统。

KRI Ion Source 有栅极离子源RFICP 200 产品参数

Model	RFICP 200
Discharge	RF inductive
Filamentless	Yes
RF power	>0.5 kW
Ion optics	OptiBeamTM
Grids	Application specific
Alignment	Self-aligned
Neutralizer	Yes (options)
Power controller	RFICP ion Power Pack
Options
Beam Shape	Collimated， convergent， divergent
Water cooled	Yes