SAL-3000Plus ALD原子层沉积系统
产品介绍 SAL-3000Plus ALD原子层沉积系统 SAL3000Plus是一款可拓展型的ALD原子层沉积系统,可通过连接STR2000转移单元,与退火设备SAN2000Plus,镀膜设备,SVE2000Plus蒸镀设备,SSP2000Plus/SSP3000Plus磁控溅射设备搭配; SAL-3000Plus SAL3000Plus+ STR2000+SAN2000Plus 性能及特点: 1.镀膜质量高 · 膜厚均匀性≤3% @ 100mm · 对于内孔、凹槽与高深宽比结构具有良好的沉积均匀性; · 膜厚可准确控制达一个原子层; · 大面积制程可达到无孔洞薄膜(Pin Hole free) · 极高的重复性及稳定性 · 材料缺陷密度低 · 可成长非晶型或结晶薄膜(选择温度) 2.两种成膜方向可选 · 可选择将薄膜沉积在基底上表面和基底下表面,薄膜沉积在基底下表面可降低颗粒附着基底的风险。 3. 可通过STR2000与其它Plus系列设备串联 4.最多可搭载6路前驱体 5.优异的真空性能:真空度≤5Pa 6.图形用户界面,触控操作,简单易用,可存储30多种镀膜方案 7.与SAL3000相比,宽度减少了40% 6. 可搭配多种配件: 干式真空泵,臭氧发生器,尾气处理装置,800℃基底加热器,200℃前驱体加热器等,退火设备等; |
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