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小型台式无掩模光刻系统
小型台式无掩模光刻系统图片
产地:英国
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产品介绍

小型台式无掩模光刻系统

小型台式无掩模光刻系统是英国Durham Magneto Optics公司专为实验室设计开发,为微流控、SAW、半导体、自旋电子学等研究领域提供方便高效的微加工方案。

传统的光刻工艺中所使用的铬玻璃掩模板需要由专业供应商提供,但是在研发环境中,掩模板的设计通常需要经常改变。无掩模光刻技术通过以软件设计电子掩模板 的方法,克服了这一问题。与通过物理掩模板进行光照的传统工艺不同,激光直写是通过电脑控制一系列激光脉冲的开关,在光刻胶上直接曝光绘出所要的图案。

Microwriter ML3 是一款多功能激光直写光刻系统,具有结构小巧紧凑(70cm X 70cm X 70cm),无掩模直写系统的灵活性,还拥有高直写速度,高分辨率的特点。采用集成化设计,全自动控制,可靠性高,操作简便。适用于各种实验室桌面。

产品特点

Focus Lock自动对焦功能

Focus Lock技术是利用自动对焦功能对样品表面高度进行探测,并通过Z向调整和补偿,以保证曝光分辨率。

光学轮廓仪

Microwriter ML3 配备光学轮廓探测工具,用于匀胶后沉积层,蚀刻层,MEMS等前道结构的形貌探测与套刻。Z向最高精度100 nm,方便快捷。

标记物自动识别

点击“Bulls-Eye”按钮,系统自动在显微镜图像中识别光刻标记。标记物被识别后,将自动将其移动到显微镜中心位置。

直写前预检查

软件可以实时显微观测基体表面,并显示预直写图形位置。通过实时调整位置、角度,直到设计图形按要求与已有结构重合,保证直写准确。

简单的直写软件

MicroWriter 由一个简单直观的Windows界面软件控制。工具栏会引导使用者进行简单的布局设计、基片对准和曝光的基本操作。该软件在Windows10系统下运行。

Clewin 掩模图形设计软件

? 可以读取多种图形设计文件(DXF, CIF, GDSII, 等)

? 可以直接读取TIFF, BMP 等图片格式

? 书写范围只由基片尺寸决定

产品参数

Microwriter ML3

基本型

增强型

旗舰型

最大样品尺寸

155×155×7mm

155×155×7mm

230×230×15mm

最大直写面积

149mm x 149mm

149mm x 149mm

195mm x 195mm

曝光光源

405 nm LED 1.5W

405 nm LED 1.5W

385 nm LED 适用于SU-8

(365+405nm双光源可选)

直写分辨率

1μm

1μm and 5 μm

0.6μm, 1μm, 2μm, 5μm

直写速度

20mm2/min @ 1μm

20mm2/min @ 1μm

120mm2/min @ 5μm

25mm2/min @ 0.6μm

50mm2/min @ 1μm

100mm2/min @ 2μm

180mm2/min @ 5μm

对准显微镜镜头

x10

x3 and x10 自动切换

x3, x5, x10, x20 自动切换

多层套刻精度

±1μm

±1μm

±0.5μm

最小栅格精度

200nm

200nm

100nm

样品台最小步长

100nm

100nm

50nm

光学轮廓Z分辨率

无(可升级)

300nm

100nm

样品表面自动对焦

灰度直写(255级)

自动晶片检查工具

无(可升级)

温控样品腔室

无(可升级)

无(可升级)

气动减震光学平台

无(可升级)

无(可升级)

应用案例

直写分辨率0.1μm

直写分辨率0.6μm

微电极制备

光刻胶上的图形

Au电极(SEM)

Au电极(SEM)

设计图

光刻胶上的图形

放大图的显微结构

微结构制备

微流通道制备

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