微波等离子化学气相沉积系统-MPCVD

应用领域

● 大尺寸宝石级单晶钻石

● 高取向度金刚石晶体

● 纳米结晶金刚石

● 碳纳米管/类金刚石碳（DLC）

● MPCVD同样适用于其它硬质材料如Al2O3，c-BN的薄膜沉积和晶体合成。

MPCVD等离子化学气相沉积设备特点

1.CYRANNUS®技术无需在样品腔内安装内部电极，在沉积腔内，没有工作气体以外的任何物质，洁净，无污染源。等离子发生器可以保持长寿命，并可以确保腔内的等离子体的均匀分布，进一步生成晶体的纯净度和生长周期。

2.CYRANNUS®技术的腔外多电极设置，确保等离子团稳定生成于腔内中心位置，对腔壁、窗口等无侵蚀作用，减少杂质来源，提高晶体纯度。由CYRANNUS®系统合成的金刚石，纯度均在VVS级别以上。

3.电子温度和离子温度对中性气体温度之比非常高，运载气体保持合适的温度，因此可使基底的温度不会过高。

4.微波发生器稳定易控，能在从10 mbar到室压的高压强环境下维持等离子体，在气流、气压、气体成分、电压出现波动时，确保等离子体状态的稳定，保证单晶生长的过程不被上述干扰而中断，有利于获得大尺寸单晶金刚石。

5.可以采用磁约束的方法，约束在等离子团在约定的空间内，微波结和磁路可以兼容。

6.安全因素高。高压源和等离子体发生器互相隔离，微波泄漏小，容易达到辐射安全标准。

7.可搭配多种功率微波源和不同尺寸腔体，满足从实验室小型设备到工业大型装置的不同需要。可以对直径达到300mm的衬底沉积金刚石薄膜。

设备选件