SKY–Novellus C1化学气象沉积设备-6
产品介绍 仪器简介: 应用: ◆ 二氧化硅、氮化硅、氮氧硅全自动沉积工艺。 技术参数: SKY公司的C1 PECVD设备是买断Novellus C1型号的技术授权在国内生产的PECVD设备,所有性能指标均和美国原产地Novellus C1相同,配件国产率超过70%。 SKY公司依托Novellus公司的技术授权,拥有本地及回国人员组成的强大技术团队,目前产品主要应用于4~6”主流硅半导体、化合物半导体及MEMS领域。 主要特点: ◆ 高度稳定的均匀性; ◆ 高度稳定的折射率; ◆ Novellus技术授权; ◆ 零部件国产化及稳定的零部件供应; ◆ 菜单式二氧化硅、氮化硅、氮氧硅全自动沉积工艺; ◆ 真空室(沉积室)等离子体自动刻蚀清洗; ◆ 双频RF/LF电源发生器; ◆ 阻抗匹配器自动调节; ◆ 单腔(七片)、连续(七十五片)自动转换沉积。 |
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