无掩模曝光机

美国IMP（Intelligent Micro Patterning， LLC）公司凭借多年的光刻设备生产经验和多项无掩模曝光专利技术，已成为无掩模紫外光刻领域的***。

产品优点：

微米和亚微米光刻 (最小可达到0.6um线宽)

紫外光直写曝光，无需掩模，大幅节约了掩模加工费用

灵活性高，可直接通过电脑设计光刻图形，并可根据设计要求随意调整。

可升级开放性系统设计。

按照客户要求可从低端到高端自由配置

使用维护简单， 设备耗材价格低。

应用范围广，目前广泛应用于半导体、生物芯片、微机电系统、传感器、微化学、光学等领域。

最小线宽可以达到0.6um量级