日本电子 JIB-4600F 聚焦离子束
产品介绍 主要特点: ? 浸没式热场发射电子枪 提供高稳定的电子束束流,与**光栏角控制透镜配合获得高分辨图像. ? 电子束大电流高速分析 电子束最大束流强度200nA ? 离子束大电流模式 加工速度很快 ? 实时监控加工过程 通过扫描电镜图像可以实时监控加工过程,提高了内部结构分析和获得TEM用薄膜样品的效率。 ? 扩展性极强 大样品台最大装样直径50mm,并且可以同时安装EDS, EBSD, and CLD等探头 技术参数: FIB 离子源:Ga(镓)液态金属离子源 保证分辨率: 5 nm 以下(加速电压 30 kV) 加速电压: 5 to 30 kV 放大倍数: x30 (广域) x100 - x300,000 最大束流:30 nA SEM 浸没式热场发射电子枪 保证分辨率: 1.2 nm (电压 30 kV) 加速电压: 0.2 to 30 kV 放大倍数:x50 - x1,000,000 最大束流: 200 nA 样品台移动范围: X:50mm , Y:50mm , Z:1.5~40mm , T:-5~70° , R:360° |
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