KRI 考夫曼离子源 RFICP 200 HO
产品介绍 KRI 考夫曼离子源 RFICP 200 HO KRI Ion Source RFICP 200 HO 是一款大型的有栅极离子源,能够产生高密度的离子束,特别是在 1000 eV 或稍低的能量下获得极高密度的离子束,因此合适于像离子辅助沉积和离子束刻蚀这样的低能量的工艺。因为尺寸的大型化,使它更适用于较大覆盖区域和较高均匀性的要求,因此广泛应用在大型离子辅助的盒式镀膜机和较大尺寸 wafer 的离子刻蚀系统。 KRI Ion Source 有栅极离子源RFICP 200 HO, Gridded RF Ion Source产品规格
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