太阳能电池钝化用ALD设备
产品介绍 晶硅太阳能电池表面钝化用高产出原子层沉积系统 ALD for surface passivation of c-Si solar cells 应用: 1.CIGS太阳能电池无镉缓冲层沉积 2.晶硅太阳能电池表面钝化层沉积 3.大规模生产的应用 4.工业全自动生产设备 5.高产量:高达4500晶片/小时(156 X 156 m㎡) 特征: 1.良好的厚度&均匀性好的Al2O3薄膜 2.用于短气体循环时间的先进工艺套件和小体积 3.具体化的ALD机械装置 4.全集成工艺模块 5.操作过程简单 6.自动式操作 技术规格:
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