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灰度光刻:让微透镜阵列从设计图纸精准“落地”为HUD光学核心
灰度光刻:让微透镜阵列从设计图纸精准“落地”为HUD光学核心近年来,抬头显示(HUD)正从高端车型的选配走向智能座舱的标配,增强现实抬头显示(AR-HUD)更成为各大车企竞相布局的重点。整套AR-HUD的成像效
2026.08.04
柔性微纳器件一体化加工方案|无掩模版紫外光刻 + 高精度3D光刻
柔性微纳器件一体化加工方案|无掩模版紫外光刻+高精度3D光刻如今柔性微纳器件早已不再局限于简单平面线路,行业正向三维微结构集成化快速迭代。但传统加工工艺痛点扎堆:定制掩模成本居高不下、多层套刻精度难以把控;分步
2026.07.28
攻克复杂三维形貌测量难题——托托科技·光学轮廓仪高精度三维形貌测量功能
攻克复杂三维形貌测量难题——托托科技·光学轮廓仪高精度三维形貌测量功能复杂三维形貌测量,是半导体、MEMS、精密机械制造领域长期面临的检测难点。晶圆刻蚀沟槽、TSV深孔、芯片阵列及机械磨损缺陷等结构,因开口窄、
2026.07.13
托托科技Kerr显微镜助力自旋新发现,NUS & KAIST团队揭示磁振子“反常寿命反转”
托托科技Kerr显微镜助力自旋新发现,NUS&KAIST团队揭示磁振子“反常寿命反转”,近日,新加坡国立大学电子与计算机工程系HyunsooYang教授团队联合韩国科学技术院物理系Kyung-JinLe
2026.06.26
直写光刻,为光通信芯片研发按下“加速键”
直写光刻,为光通信芯片研发按下“加速键”在光通信系统中,从骨干网到数据中心,从5G前传到相干光模块,芯片级器件的性能直接决定了整个链路的带宽、功耗与可靠性。硅光波导、高速调制器、微透镜阵列、微环谐振器……这些核
2026.06.16
托托科技助力西交大AFM:实现3D毛细液体二极管与智能润滑新突破
托托科技助力西交大AFM:实现3D毛细液体二极管与智能润滑新突破近日,西安交通大学现代设计与转子轴承系统教育部重点实验室团队在《AdvancedFunctionalMaterials》期刊上发表了题为“3DCa
2026.06.09
DOE加工误差大、效率低?托托科技无掩模紫外光刻机,让衍射光学设计迭代高效完成
衍射光学元件(DiffractiveOpticalElement,简称DOE),又称二元光学器件,是通过微纳结构调控光波衍射特性,实现对光场进行精密调控的一类光学元件。与传统的折射或反射型光学元件不同,DOE不
2025.08.04
磁光克尔显微镜:让磁场“显形”的黑科技,到底有多神奇?
磁光克尔显微镜:让磁场“显形”的黑科技,到底有多神奇?你是否想过,科学家如何“看见”一块金属内部的磁场?没有颜色,没有形状,磁场仿佛隐形在材料中。但有一种“魔法”——磁光克尔显微镜,能让磁场“原形毕露”。今天,
2025.04.09
对半导体光刻基底的表面质量控制·托托科技三维光学轮廓仪
根据应用场景的不同,在半导体光刻中会用到多种不同材料的基底,比如常见的硅、碳化硅、石英玻璃、陶瓷或者柔性材料等。基底的表面质量直接决定了光刻胶均匀性、工艺参数及最终的器件性能。随着半导体产业的持续发展,以及越来
2025.01.30
托托科技全力自研,解决打印精度硬需求,带动超高精度3D打印技术发展
托托科技全力自研,解决打印精度硬需求,带动超高精度3D打印技术发展市场需求背景在航空航天、汽车制造、医疗器械、生物芯片等高端制造领域,往往涉及精细化、复杂化、精密孔道设计的高精尖器械定制加工。长期以来,微型精密
2025.01.21
超材料微纳结构高保真加工——托托科技织雀®系列高精度3D光刻
超材料微纳结构高保真加工——托托科技织雀®系列高精度3D光刻超材料作为国家“十五五”规划重点布局的先进材料方向,正从实验室概念走向电磁隐身、声学隔振、航空航天等工程应用。然而,超材料的性能高度依赖微米级复杂三维
2023.08.21
过程监控与缺陷预警 | 托托科技高精度3D光刻光学实时监控功能深度解析
过程监控与缺陷预警|托托科技高精度3D光刻光学实时监控功能深度解析在传统下沉式3D光刻打印中,用户面临一个普遍痛点:样件从开始打印到最终取出,中间过程完全不可见。曝光参数设置是否合理?当前层是否出现过曝、欠曝、
2023.02.14

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