一、产品基础概况

高纯锰，元素符号 Mn，CAS 号 7439-96-5，是重要过渡族高纯金属，广泛用于特种合金、电子材料、磁材、新能源等领域，多通过电解、真空蒸馏提纯制得。常温下外观为银灰色金属，表面易形成浅灰色氧化层，质地硬脆，常温下在干燥空气中性质相对稳定，高温易与氧、氮发生反应。基础理化参数：原子量 54.94，密度 7.43g/cm³，熔点 1244℃，沸点 1962℃，具备多种价态，磁化性能优良，是钢材、铝合金、铜合金关键脱氧、细化晶粒添加原料。

二、纯度分级与杂质管控标准

产品经 ICP-MS 全元素检测，重点管控铁、硅、碳、硫、磷、镍、钴等有害杂质，主流分级如下：

1. 4N 级（99.99%，工业合金级）总杂质≤100ppm，硫、磷、碳严格限制，适用于普通铜锰、铝锰合金、普通永磁材料、炼钢脱氧剂。

2. 5N 级（99.999%，电子磁材级）总杂质≤10ppm，重金属、非金属杂质深度去除，用于软磁合金、锂电池前驱体、真空熔炼特种合金。

3. 6N 级（99.9999%，超高纯科研电子级）总杂质≤1ppm，氧、碳杂质严控，经过真空重熔、区熔提纯，适配半导体镀膜、单晶制备、前沿储能材料研发。

三、常规供货形态，支持非标定制

成品在惰性环境加工，真空密封包装，多种规格可选：

1. 高纯锰锭 / 锰块：标准铸块，致密无气孔，适合真空熔炼配制合金；

2. 高纯锰粒 / 锰珠：均匀颗粒，熔化速率平稳，蒸镀、单晶长晶投料使用；

3. 高纯锰粉：多目数分级粉体，低氧低杂质，用于粉末冶金、磁材压制；

4. 高纯锰棒、锰片：轧制切割型材，适配电极、小型实验试样；

5. 锰溅射靶材：高密度成型靶材，用于功能薄膜、磁性薄膜沉积产线。

四、标准化提纯生产工艺

采用电解精炼搭配高温真空蒸馏联合提纯，全流程洁净密闭生产：

1. 粗锰电解提纯：低品位锰矿浸出、电解液净化，电解产出基础金属锰；

2. 精炼除杂：酸洗去除表面夹杂，脱除硫、磷、碳等非金属杂质；

3. 真空高温蒸馏：利用沸点差异分离铁、硅、镍、钴等金属杂质，提升纯度至 5N/6N；

4. 惰性气氛成型：氩气保护浇铸、切割、粉碎，避免加工过程氧化；

5. 真空封装：铝箔真空防潮密封，隔绝空气水汽，延长储存周期。

五、主要应用领域

1. 特种合金制造

5N 高纯锰作为合金添加剂，添加至铜、铝、镁、镍基合金中，细化内部晶粒，提升合金强度、耐磨性与焊接性能，多用于高端装备、船舶、轻量化零部件生产。

2. 磁性材料行业

超高纯锰用于锰锌铁氧体软磁材料，杂质含量直接影响磁导率与损耗值，适配电源变压器、电感、滤波器等电子元器件。

3. 新能源锂电池

高纯锰是三元、富锰锂电正极材料核心原料，极低杂质可减少电池内部副反应，提升电芯循环寿命与安全稳定性。

4. 半导体与真空镀膜

6N 高纯锰制成靶材，用于制备磁性薄膜、阻变存储薄膜；锰粒、锰丝可用于真空热蒸发镀膜，制备各类功能防护膜层。

5. 钢材冶金与科研

4N 高纯锰用于优质特种钢脱氧脱硫，提升钢材韧性；6N 超高纯锰供给实验室单晶合成、新型催化材料、低温功能材料研发。

六、产品核心优势

1. 多级联合除杂工艺，严控碳硫磷及过渡金属杂质，避免下游产品性能衰减；

2. 锭、粒、粉、靶材全品类规格覆盖，适配熔炼、粉末成型、镀膜、长晶各类工艺；

3. 低氧指标稳定，真空充氩包装，长期存放不易氧化变质；

4. 批次检测完整，可提供原厂杂质分析报告及第三方检测证书，满足各行业供应链审核标准。

七、储存、操作与运输规范

1. 仓储：存放干燥通风库房，环境湿度控制在 60% 以内，远离强酸、强氧化剂分开存放，禁止长期敞口放置；

2. 操作：粉体作业时佩戴防尘防护用具，保持场地通风，及时清理散落金属粉末；避免徒手直接接触成品；

3. 运输：属于普通稀有金属原料，非危险化学品，包装加装防潮防护，运输过程防止挤压碎裂。