PhableR 100 紫外光刻机

产地:瑞士

产品介绍

PhableR 100 紫外光刻机是一套低成本的光学曝光系统，但却能获得高分辨率的周期性结构。同传统的紫外曝光机类似，涂覆了光刻胶的晶片以接近方式放置在掩膜版下面，被紫外光束照射。由于Eulitha拥有突破性的PHABLE曝光技术，在"PHABLE"模式下，分辨率不再受到衍射的限制，从而曝光出亚微米的线性光栅和二维光栅（六角形和正方形），且曝光结果非常均匀，质量很好；在"mask aligner"模式下，能非常轻松地获得微米尺寸的图形。

特点：

可达到步进光刻机的高分辨率
操作简单性与紫外曝光机相同
光子图形化的低成本解决方案

优势：

高分辨率（低于300nm pitch）
全场曝光
非接触式：防止掩膜受损及被污染
焦深几乎没有限制
表面不平的衬底也适用（如外延片）
均匀性高
具有套刻对准能力
商业化的可获得的光刻胶和材料都适用
使用传统的掩膜板（玻璃上镀铬）
频率倍增

PhableR 100革新性紫外光刻机

应用：

LED光萃取层
蓝宝石衬底图形化（PSS）
磁性纳米结构
减反射图形
太阳能光伏
电通讯光栅
光谱仪光栅
等离子图案
编码器标尺
滤色镜
生物传感器