KMPR 1000光刻胶
产品介绍 KMPR为负性光刻胶,用作DRIE蚀刻掩膜实现高深宽比的图案,它还被广泛用作MEMS与生物器件的电镀模具。因为KMPR减少了Cross-link密度,在Hard baked之前,KMPR比SU-8更容易剥离。KMPR负性光刻胶可在任何(PGMEA),或(TMAH)的显影剂中得到显影。 KMPR 1000系列的特性 1)临时或**的应用程序 2)膜厚:2-75 um 3)兼容标准水性显影剂 4)高宽比成像和垂直侧壁,深宽比:>5:1 5)单一旋途可达100微米 6)减少开裂 7)优异的金属粘附性 8)优异的电镀膜液稳定性 相关溶液: 显影液:SU-8 Developer 去胶液:Remover PG 增附剂:OmniCoat 一般储存温度: -10°C |
相关产品
|